Інтенсивна відновлювальна маска Dr. Althea 345 Relief Cream Mask - це потужний регенерувальний продукт для шкіри, що потребує негайного заспокоєння та глибокої реконструкції. Засіб розроблено спеціально для догляду за чутливим, проблемним та втомленим епідермісом, який страждає від подразнень, висипань або має порушений захисний бар'єр. Завдяки високій концентрації активів, есенція маски працює на клітинному рівні, запускаючи процеси омолодження та загоєння. Вона миттєво знімає стрес шкіри, усуває почервоніння та повертає обличчю здоровий, відпочилий вигляд.
Основні компоненти:
- гідролат чайного дерева та екстракт центелли азіатської - потужний заспокійливий дует, який ефективно бореться із запаленнями, пригнічує розвиток бактерій, що викликають акне, та швидко знімає свербіж;
- ресвератрол - сильний антиоксидант, який захищає клітини від руйнування вільними радикалами, уповільнює процеси старіння та стимулює природні захисні функції;
- PDRN (Sodium DNA) - полінуклеотиди, що активують регенерацію тканин на глибокому рівні, прискорюють загоєння мікропошкоджень та сприяють оновленню клітин;
- кераміди (Ceramide NP) та пантенол - відновлюють цілісність гідроліпідної мантії, усувають сухість та лущення, роблять шкіру м'якою та еластичною;
- ніацинамід - освітлює постакне, вирівнює загальний тон обличчя, регулює вироблення шкірного себуму та звужує пори;
- гіалуронова кислота та бета-глюкан - забезпечують глибоке зволоження, підвищують пружність шкіри та знімають ознаки зневоднення.
